レーザーテックとASMLがすごい理由を解説しました。レーザーテックとASMLがすごい理由を解説しました！半導体研究開発をしているとき、ASMLの液浸露光装置をよく使っていました。僕はシリコンWaferをクリーンルームに投入してから電気テストして不良を減らすところまでを統括して開発する担当をしており、その中でリソグラフィも担当していたので装置担当の方と密にやり取りしていました(装置を触ったことはない)。半導体のマスクが僕宛に入荷し、それを受け取って、リソグラフィ担当の方によく渡しに行ったものです。条件だしの露光でのDoseやFocusの調整をどうするかとか、合わせずれや塗布ムラとの戦いとか、今となっては懐かしいですね。

動画で紹介しているASMLの1950iは超高い装置でキャパもなかったので、コスト削減のためなるべく使わないように工夫していました。

今思い出しましたが、爆弾台風の超低気圧が来た時に、気圧の関係で装置が止まってスケジュールが遅延して大変だった思いがありました。。(笑)

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1:41 半導体装置メーカーの売り上げMap。
2:28 露光技術による半導体の微細化の流れ
7:16 i線からKrFからArFへの技術革新
9:18 ASMLの液浸露光技術のすごさ
10:52 ASMLのツインスキャン技術
15:33 ASMLによるEUV露光装置の開発
18:28 ASMLのすごいところ
22:28 レーザーテックのすごい技術力
25:34 レーザーテックのEUVマスク欠陥装置のラインナップ
29:42 レーザーテックがすごい理由

–自己紹介など————————————
もふもふ不動産　もふのプロフィール
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1980年生まれ。東京都出身。研究開発の仕事を2003年から続け、SONYや東芝で世界最先端の半導体研究開発に携わる。リーマンショックで会社がつぶれそうになったのをきっかけに、株式投資や不動産投資を開始。2015年に法人設立し、副業で会社を経営。2017年からブログで不動産投資の情報を発信し、2018年にYoutube開始。2019年にサラリーマンを退職。現在は会社を経営している。

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